Nvidia GTC 在线主题演讲中的大量技术花絮(在新标签页中打开)本周是一个用于加速芯片制造过程的新软件工具。它被称为 cuLitho，据称可将光刻中使用的掩模的设计过程加快 40 倍。
Nvidia 表示，芯片制造行业的领导者 TSMC、ASML 和 Synopsys 都已签约 cuLitho。当然，cuLitho 仅在 Nvidia 的 GPU 上运行，而这些 GPU 又由 TSMC 制造。
因此，这意味着 Nvidia 委托台积电制造 GPU，然后直接将它们卖回给台积电，以便用于 cuLitho。如果你能得到它，那就太好了。
Nvidia 表示，安装大约 4,000 个 H100 Hopper 服务器 GPU 可以取代 40,000 个基于 CPU 的服务器，完成同样的工作速度提高 40 倍，同时功耗降低九倍。
所讨论的工作是设计光刻过程中使用的光掩模。简单来说，芯片是通过将光透过图案化的掩模照射到硅晶片上，将包括电线和晶体管在内的各个组件蚀刻到晶片表面而制成的。
实际上，芯片的特征是使用一系列掩膜分层构建的。显然，创建 Nvidia 自己的 H100 Hopper GPU 需要 89 个掩码。